高周波プラズマ化学気相成長法による窒素添加DLC薄膜の膜特性への基板バイアスの影響
高周波プラズマ化学気相成長法による窒素添加DLC薄膜の膜特性への基板バイアスの影響
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衬底偏压对高频等离子体化学气相沉积氮掺杂DLC薄膜薄膜性能的影响
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中澤日出樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
土屋政人;村上和輝;佐藤達人;高見貴弘;遠田義晴;中澤日出樹
