A.Nakagawa,M.Sugiura and Y.Okabe: "Substrate bias and pressure effect on formation of YBaCuO thin films rf magnetron sputtering system" Jpn.J.Appl.Phys.Vol.30 No.6A. L993-996 (1991)
A.Nakagawa,M.Sugiura and Y.Okabe: "Substrate bias and pressure effect on formation of YBaCuO thin films rf magnetron sputtering system" Jpn.J.Appl.Phys.Vol.30 No.6A. L993-996 (1991)
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A.Nakakawa、M.Sugiura 和 Y.Okabe：“基板偏压和压力对 YBaCuO 薄膜射频磁控溅射系统形成的影响”Jpn.J.Appl.Phys.Vol.30 No.6A。
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