直流磁控溅射沉积含He钛膜的研究

直流磁控溅射沉积含He钛膜的研究
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DOI:
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发表时间:
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期刊:
原子核物理评论
影响因子:
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通讯作者:
徐世林
徐世林
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
施立群;金钦华;刘超卓;周筑颖;徐世林

文献摘要

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