High speed deposition of diamond film using in liquid-plasma CVD method
High speed deposition of diamond film using in liquid-plasma CVD method
复制标题
液体等离子体CVD法高速沉积金刚石薄膜
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shinobu Mukasa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiromichi Toyota;Shoma Ikeda;Shinfuku Nomura;Shinobu Mukasa
