Initial Cu Growth in Cu-Seeded and Ru-Lined Narrow Trenches for Supercritical Fluid Cu Chemical Deposition

Initial Cu Growth in Cu-Seeded and Ru-Lined Narrow Trenches for Supercritical Fluid Cu Chemical Deposition
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用于超临界流体铜化学沉积的铜籽晶和 Ru 衬里窄沟槽中的初始铜生长

DOI:
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发表时间:
2010
期刊:
Jpn.J.Appl.Phys.
影响因子:
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通讯作者:
Y.Shimogaki
Y.Shimogaki
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
E.Kondoh;M.Matsubara;K.Tamai;Y.Shimogaki

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