Y.Takakuwa, F.Ishida, T.Kawawa: "Time evolution of interface roughness during thermal oxidation on Si(001)"Appl. Surf. Sci.. (印刷中). (2002)
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Y.Takakuwa、F.Ishida、T.Kawawa：“Si(001) 热氧化过程中界面粗糙度的时间演化”Sci.（出版中）。
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