Hisashi FUKUDA: "Effest of Fowler-Nordheim Stress on Charge Trapping Properties of Ultrathin N_2O-Oxynitridpd SiO_2 Films" Japanese Jour.of Appl.Phys.34. 87-88 (1995)
Hisashi FUKUDA: "Effest of Fowler-Nordheim Stress on Charge Trapping Properties of Ultrathin N_2O-Oxynitridpd SiO_2 Films" Japanese Jour.of Appl.Phys.34. 87-88 (1995)
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Hisashi FUKUDA：“福勒-诺德海姆应力对超薄 N_2O-氧氮化物 SiO_2 薄膜电荷俘获性能的影响”日本 Jour.of Appl.Phys.34。
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