Improved epitaxial growth of TbAs film on III–V semiconductors

Improved epitaxial growth of TbAs film on III–V semiconductors
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改进 III-V 族半导体上 TbAs 薄膜的外延生长

DOI:
10.1116/1.5144999
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发表时间:
2020
影响因子:
2.9
通讯作者:
Zide, Joshua M. O.
Zide, Joshua M. O.
中科院分区:
材料科学2区
文献类型:
--
作者:
Wang, Yuejing;Bork, James;Law, Stephanie;Zide, Joshua M. O.

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