原子レベル平坦化Si表面を用いた紫外光高感度・高信頼性フォトダイオード
原子レベル平坦化Si表面を用いた紫外光高感度・高信頼性フォトダイオード
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采用原子平整硅表面的紫外光敏感且高度可靠的光电二极管
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
黒田理人
中科院分区：
文献类型：
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作者：
西尾真由子;Juliette Marin;藤野陽三;黒田理人
