シリコン中間層を用いた炭化珪素薄膜低温形成法
シリコン中間層を用いた炭化珪素薄膜低温形成法
复制标题
使用硅中间层的碳化硅薄膜低温形成方法
DOI：
--
复制
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
津地雅希,羽深等
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Takeda;A Minowa;T. Oku;A. Suzuki;K. Kikuchi;Y. Yamasaki;津地雅希,羽深等
