GaまたはTaをドープしたSrTiO3光触媒の電子-正孔再結合速度(1P35)
GaまたはTaをドープしたSrTiO3光触媒の電子-正孔再結合速度(1P35)
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掺杂Ga或Ta的SrTiO3光催化剂的电子空穴复合率（1P35）
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大西 洋
中科院分区：
文献类型：
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作者：
朴 ヨハン（PARK Yohan）;李 浩亮;大西 洋
