Polarized effects in optical lithography with high NA technology
Polarized effects in optical lithography with high NA technology
复制标题
高数值孔径技术的光学光刻中的偏振效应
DOI：
10.3938/jkps.50.1952
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发表时间：
2007
影响因子：
0.6
通讯作者：
Sang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Sang
