Polishing path planning for physically uniform overlap of polishing ribbons on freeform surface
Polishing path planning for physically uniform overlap of polishing ribbons on freeform surface
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自由曲面上抛光带物理均匀重叠的抛光路径规划
DOI：
10.1007/s00170-017-0466-z
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发表时间：
2017-05
影响因子：
3.4
通讯作者：
Zhang L
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zhang Lei;Han Yanjun;Tang Ye;Song Xunpeng;Fan Cheng;Zhang L
本文提出了一种新的抛光路径规划方法，以抛光带的物理均匀重叠代替传统的几何均匀覆盖，试图实现均匀的材料去除
This paper presents a new polishing path planning method for physically uniform overlap of polishing ribbons instead of traditional geometrically uniform coverage of polishing path on freeform surfaces, which attempts to achieve the even material removal
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DOI：
10.1007/s00170-013-4814-3
发表时间：
2013-02
期刊：
The International Journal of Advanced Manufacturing Technology
影响因子：
--
作者：
J. Zhan
通讯作者：
J. Zhan
DOI：
10.1007/s00170-014-5855-y
发表时间：
2014-05
期刊：
The International Journal of Advanced Manufacturing Technology
影响因子：
--
作者：
H. Huang;K. Fuh;Jung-Shu Wu;Y. Tai
通讯作者：
H. Huang;K. Fuh;Jung-Shu Wu;Y. Tai
影响因子：
1.3
作者：
Liu, Jian;Wang, Shaozhi;Chen, Huanan
通讯作者：
Chen, Huanan
DOI：
10.1016/j.ijmachtools.2008.04.009
发表时间：
2008-10-01
影响因子：
14
作者：
Liao, Liang;Xi, Fengfeng (Jeff);Liu, Kefu
通讯作者：
Liu, Kefu
影响因子：
1.5
作者：
H. Schwetlick;Torsten Schütze
通讯作者：
H. Schwetlick;Torsten Schütze