Al2O3/SiC MOS構造における伝導帯端近傍の電気特性

Al2O3/SiC MOS構造における伝導帯端近傍の電気特性
复制标题

Al2O3/SiC MOS结构中导带边缘附近的电特性

DOI:
--
复制
发表时间:
2014
期刊:
第19回ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―研究報告
影响因子:
--
通讯作者:
財満 鎭明
財満 鎭明
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
田岡 紀之;坂下 満男;中塚 理;財満 鎭明

文献摘要

相似文献