Formation of low resistance contacts to p-type 4H-SiC using laser doping with an Al thin-film dopant source

Formation of low resistance contacts to p-type 4H-SiC using laser doping with an Al thin-film dopant source
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使用铝薄膜掺杂剂源进行激光掺杂,形成 p 型 4H-SiC 的低电阻触点

DOI:
10.7567/1347-4065/ab12c3
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发表时间:
2019
期刊:
Japanese Journal of Appied Physics
影响因子:
--
通讯作者:
T. Asano
T. Asano
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
K. Okamoto;T. Kikuchi;A. Ikeda;H. Ikenoue;T. Asano

文献摘要

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