Production of thin films by control of electron temperature in CH4/H2/Ar plasma

Production of thin films by control of electron temperature in CH4/H2/Ar plasma
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通过控制 CH4/H2/Ar 等离子体中的电子温度生产薄膜

DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
The 21^<st> Symposium on Plasma Processing
影响因子:
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通讯作者:
Ikada
Ikada
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Reijiro;Ikada

文献摘要

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