伊藤 尚己: "RFバイアス印加マイクロ波プラズマCVDによるSiN薄膜の作成" 電子情報通信学会論文誌CーII. J74ーCーII. 21-25 (1991)
伊藤 尚己: "RFバイアス印加マイクロ波プラズマCVDによるSiN薄膜の作成" 電子情報通信学会論文誌CーII. J74ーCーII. 21-25 (1991)
复制标题
Naoki Ito:“通过射频偏压应用微波等离子体 CVD 制备 SiN 薄膜”IEICE Transactions C-II 21-25 (1991)。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: