Self-regulation of Bi/(Bi+Fe) ratio in metalorganic chemical vapor deposition of BiFeO3 thin films
Self-regulation of Bi/(Bi+Fe) ratio in metalorganic chemical vapor deposition of BiFeO3 thin films
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BiFeO3 薄膜金属有机化学气相沉积中 Bi/(Bi Fe) 比例的自调节
DOI：
10.7567/jjap.56.10pf05
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发表时间：
2017
影响因子：
1.5
通讯作者：
Shimizu Masaru
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Fujisawa Hironori;Yoshimura Nao;Nakashima Seiji;Shimizu Masaru
