Electrostatic properties of organic monolayers on silicon oxides studied by Kelvin probe force microscopy
Electrostatic properties of organic monolayers on silicon oxides studied by Kelvin probe force microscopy
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用开尔文探针力显微镜研究氧化硅上有机单层的静电特性
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
L.Nguyen and H.Tada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Mishima;L.Nguyen and H.Tada
