Measurement of the nonlinear refractive index in optical thin films
Measurement of the nonlinear refractive index in optical thin films
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光学薄膜非线性折射率的测量
DOI：
10.1117/12.2281127
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
D. Ristau
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Steinecke;K. Kiedrowski;M. Jupé;D. Ristau
基于 z 扫描方法，设计并优化了用于测量光学克尔效应的干涉装置。利用马赫-曾德尔配置，可以监测由克尔引起的自聚焦引起的波前变形。将这种变形拟合到基于光束传播模型的理论方法中，可以获得非线性折射率。该程序可用于测量基板材料以及基板顶部沉积的介电层两者的非线性折射率。测量了为此目的专门沉积的层以及几种基底材料的非线性折射率并给出了结果。
Based on the z-scan method, an interferometric set-up for measuring the optical Kerr-effect was engineered and optimized. Utilizing a Mach-Zehnder configuration, the wave front deformation caused by the Kerr induced selffocusing is monitored. Fitting this deformation to a theoretical approach basing on a beam propagation model, the nonlinear refractive index is obtained. The procedure can be applied to measure the nonlinear refractive index of both, the substrate material as well as the deposited dielectric layer on top of the substrate. The nonlinear refractive index of a layer specially deposited for this purpose as well as for several substrate materials was measured and the results presented.
影响因子：
3.6
作者：
A. Major;F. Yoshino;I. Nikolakakos;J. S. Aitchison;Peter W. E. Smith
通讯作者：
A. Major;F. Yoshino;I. Nikolakakos;J. S. Aitchison;Peter W. E. Smith
对“使用莫尔偏转测量法对材料进行非线性折射测量”的评论
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Vaziri
通讯作者：
M. Vaziri
多层介电涂层中的克尔效应。
影响因子：
3.8
作者：
E. Fedulova;M. Trubetskov;T. Amotchkina;K. Fritsch;P. Baum;O. Pronin;V. Pervak
通讯作者：
V. Pervak