光エッチングによる均一層厚を有する極薄SOIの形成

光エッチングによる均一層厚を有する極薄SOIの形成
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光刻法形成层厚均匀的超薄SOI

DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
森田 瑞穂
森田 瑞穂
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
宮田 優希;中向 保徳;Cassia Tiemi Azevedo;押鐘 寧;川合 健太郎;有馬 健太;森田 瑞穂

文献摘要

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