Microstructure and growth kinetics of the Mo5Si3 and Mo3Si layers in MoSi2/Mo diffusion couple

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DOI:
10.1016/s0966-9795(03)00068-2
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发表时间:
2003-07
期刊:
影响因子:
4.4
通讯作者:
Jinsik Yoon;Jong-Kwon Lee;K. Lee;J. Byun;Gyeungho Kim;K. Hong
Jinsik Yoon;Jong-Kwon Lee;K. Lee;J. Byun;Gyeungho Kim;K. Hong
中科院分区:
材料科学2区
文献类型:
--
作者:
Jinsik Yoon;Jong-Kwon Lee;K. Lee;J. Byun;Gyeungho Kim;K. Hong

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