ホウ素ドープdiamond-like carbon薄膜のホウ素添加量に対する電気化学反応性
ホウ素ドープdiamond-like carbon薄膜のホウ素添加量に対する電気化学反応性
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硼掺杂类金刚石碳薄膜的电化学反应性取决于硼含量
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
楢木野宏・吉永浩亮・中原亮・本多謙介
中科院分区：
文献类型：
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作者：
金蓮花;斎藤壮;八木亮磨;山口晃司;若子裕亮;近藤英一;楢木野宏・吉永浩亮・中原亮・本多謙介
