M.Kurokawa: "Subsurface characterization of mirror polished Si wafers using pulse photoconductivity"Kanagawa Inst.Tech Report. B-23. 33-38 (1999)
M.Kurokawa: "Subsurface characterization of mirror polished Si wafers using pulse photoconductivity"Kanagawa Inst.Tech Report. B-23. 33-38 (1999)
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M.Kurokawa：“使用脉冲光电导性对镜面抛光硅晶片进行次表面表征”神奈川研究所技术报告。
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