Fluorine-Free Nanoporous Low-k Dielectric Film Covalently Grafted on Si via Aryldiazonium Chemistry
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通过芳基重氮化学共价接枝到硅上的无氟纳米孔低k介电薄膜
DOI：
10.1002/admi.202101127
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发表时间：
2021
影响因子：
5.4
通讯作者：
Li M.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Cao L.;Wu Y.;Hang T.;Li M.
