N. Oda, M. Shimozuma and H. Tagashira: "Influence of Substrate Hating for Sinx Films with Low Frequency (50Hz) PCVD" Proc. of 4th Symp. on Plasma Processing. 4. 301-304 (1987)
N. Oda, M. Shimozuma and H. Tagashira: "Influence of Substrate Hating for Sinx Films with Low Frequency (50Hz) PCVD" Proc. of 4th Symp. on Plasma Processing. 4. 301-304 (1987)
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N. Oda、M. Shimozuma 和 H. Tagashira：“低频 (50Hz) PCVD Sinx 薄膜基材仇恨的影响”Proc。
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