In-Situ Infrared Spectroscopic Study of Electrochemical Etching Processes at Si Surfaces
In-Situ Infrared Spectroscopic Study of Electrochemical Etching Processes at Si Surfaces
复制标题
Si 表面电化学蚀刻过程的原位红外光谱研究
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Niwano
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Kimura;and M. Niwano
