宇佐美 興一: "低エネルギ-酸素イオンビ-ムを用いたn型Si(100)基板上への薄いSi酸化膜の形成" 「真空」. 第35巻. 8-14 (1992)
宇佐美 興一: "低エネルギ-酸素イオンビ-ムを用いたn型Si(100)基板上への薄いSi酸化膜の形成" 「真空」. 第35巻. 8-14 (1992)
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Koichi Usami：“使用低能氧离子束在 n 型 Si(100) 衬底上形成薄硅氧化物薄膜”，《真空》，第 35 卷，8-14 (1992)。
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