Effects of Al contents microstructures of Cr_<1-X>Al_XN and Zr_<1-X>Al_XN films synthesized by cathodic arc Method

Effects of Al contents microstructures of Cr_<1-X>Al_XN and Zr_<1-X>Al_XN films synthesized by cathodic arc Method
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Al含量对阴极电弧法合成Cr_<1-X>Al_XN和Zr_<1-X>Al_XN薄膜微观结构的影响

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
Surface & Coatings Technology 200
影响因子:
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通讯作者:
Hiroyuki Hasegawa et al.
Hiroyuki Hasegawa et al.
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
中野義夫;斉藤真紀;廣川能嗣;中野 義夫 他;中野義夫 他;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;入谷 英司;入谷 英司;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;入谷 英司;入谷 英司;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;入谷 英司;E.Iritani;E.Iritani;E.Iritani;T.Sato et al.;K.Yonekura et al.;H.Hasegawa et al.;K.Yonekura et al.;K.Yonekura et al.;K.Yonekura et al.;Hiroyuki Hasegawa et al.;Kaoru Yonekura et al.;Tomonari Yamamoto et al.;Tomonari Yamamoto et al.;Hiroyuki Hasegawa et al.

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