水素化シルセスキオキサン(HSQ)をマスクに用いたSiC上へのサブ波長格子の形成
水素化シルセスキオキサン(HSQ)をマスクに用いたSiC上へのサブ波長格子の形成
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使用氢化倍半硅氧烷 (HSQ) 作为掩模在 SiC 上形成亚波长光栅
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安井学
中科院分区：
文献类型：
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作者：
平林康男;秋山賢輔;金子智;櫻沢啓太郎;安井学
