反応性スパッタ法によるCuINS_2膜における基板温度および反応性ガス供給方法に対する特性変化
反応性スパッタ法によるCuINS_2膜における基板温度および反応性ガス供給方法に対する特性変化
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反应溅射法CuINS_2薄膜的特性随基板温度和反应气体供给方式的变化
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
坪井望
中科院分区：
文献类型：
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作者：
川田孝平;坪井望
