Successful fabrication of high K_u columnar CoPt‐SiO2 granular film sputtered under high substrate temperature
Successful fabrication of high K_u columnar CoPt‐SiO2 granular film sputtered under high substrate temperature
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高衬底温度溅射成功制备高K_u柱状CoPt-SiO2颗粒薄膜
DOI：
10.1063/1.4869164
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发表时间：
2014
影响因子：
3.2
通讯作者：
Shin Saito and Migaku Takahashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kim Kong Tham;Shintaro Hinata;Shin Saito and Migaku Takahashi
