斎藤・大東・岡田・門馬・吉田: "原子状水素によるシリコン表面残留フッ素の除去" 第54回応用物理学会学術講演会予稿集. 696 (1993)
斎藤・大東・岡田・門馬・吉田: "原子状水素によるシリコン表面残留フッ素の除去" 第54回応用物理学会学術講演会予稿集. 696 (1993)
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Saito、Daito、Okada、Monma 和 Yoshida：“利用原子氢去除硅表面上的残留氟”日本应用物理学会第 54 届年会记录 696 (1993)。
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