Tuning excitability by alloying: the Rh(111)/Ni/H2 + O2 system.
Tuning excitability by alloying: the Rh(111)/Ni/H2 + O2 system.
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通过合金化调节兴奋性：Rh(111)/Ni/H2 O2 系统
DOI：
10.1039/c5cp06792h
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Ronald Imbihl
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Tim Smolinsky;Mathias Homann;Ronald Imbihl
利用光电子显微镜（PEEM）在10 ~ 5 mbar范围内研究了Ni合金Rh（111）表面O2 + H2反应的动力学行为。当T = 773 K和p(O2) = 5 × 10−5 mbar时，分岔图被绘制为Ni覆盖率的函数，范围为0 ML≤ΘNi≥1.3 ML。兴奋性需要临界Ni覆盖率ΘNi，crit = 0.13个单分子层（ML）。在可激参数范围内，发现了脉冲序列和不规则的化学波形。虽然脉冲的传播速度与Ni的覆盖度没有明显的关系，但局部PEEM强度振荡的频率在ΘNi = 0.13 ML到ΘNi = 1.3 ML的范围内随Ni的覆盖度线性增加。
The dynamic behavior of the O2 + H2 reaction on a Rh(111) surface alloyed with Ni has been studied in the 10−5 mbar range using photoemission electron microscopy (PEEM) as a spatial resolving method. For T = 773 K and p(O2) = 5 × 10−5 mbar the bifurcation diagram has been mapped out as a function of the Ni coverage in a range of 0 ML ≤ ΘNi ≥ 1.3 ML. A critical Ni coverage of ΘNi,crit = 0.13 monolayers (ML) is required for excitability. In the excitable parameter range pulse trains and irregular chemical wave patterns are found. Whereas the propagation speed of the pulses exhibits no clear-cut dependence on the Ni coverage, the frequency of the local PEEM intensity oscillations increases linearly with Ni coverage in the range from ΘNi = 0.13 ML to ΘNi = 1.3 ML.
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DOI：
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通讯作者：
R. Imbihl