An upgraded ultra-high vacuum magnetron-sputtering system for high-versatility and software-controlled deposition

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升级版超高真空磁控溅射系统,用于多功能性和软件控制的沉积

DOI:
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发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
4
通讯作者:
P. Eklund
P. Eklund
中科院分区:
材料科学2区
文献类型:
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作者:
A. le Febvrier;L. Landälv;T. Liersch;David Sandmark;P. Sandström;P. Eklund

文献摘要

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