T.Kamiya,K.Ro,C.M.Fortmann,I.Simizu: "Role of Seed Crystal Layer in Two-Step-Growth Procedure for Low Temperature Growth of Polycrystallin Silicon Thin Film from SiF4 by a Remote-Type"Jpn. J. Appl. Phys.. 38. 5762-5767 (1999)
T.Kamiya,K.Ro,C.M.Fortmann,I.Simizu: "Role of Seed Crystal Layer in Two-Step-Growth Procedure for Low Temperature Growth of Polycrystallin Silicon Thin Film from SiF4 by a Remote-Type"Jpn. J. Appl. Phys.. 38. 5762-5767 (1999)
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T.Kamiya，K.Ro，C.M.Fortmann，I.Simizu：“籽晶层在远程型 SiF4 多晶硅薄膜低温生长的两步生长过程中的作用”Jpn。
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