高品質Bi-2212薄膜作製を目指したCeO_2バッファ層製膜条件の最適化
高品質Bi-2212薄膜作製を目指したCeO_2バッファ層製膜条件の最適化
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制备高质量Bi-2212薄膜的CeO_2缓冲层沉积条件优化
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
武田正典
中科院分区：
文献类型：
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作者：
岩本恵祐;島影尚;川上彰;齊藤敦;武田正典
