Preparation of Nanogap Electrodes of Silicon by Chemical Etching
Preparation of Nanogap Electrodes of Silicon by Chemical Etching
复制标题
化学刻蚀法制备硅纳米间隙电极
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hirokazu Tada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kiyoshi Mimura;Masato Ara;Hirokazu Tada
