The negative bias temperature instability in MOS devices: A review
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DOI：
10.1016/j.microrel.2005.08.001
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发表时间：
2006-02
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
J. Stathis;S. Zafar
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Stathis;S. Zafar
