In-situ UHV electron microscope study of metal-silicon surfaces
In-situ UHV electron microscope study of metal-silicon surfaces
复制标题
金属硅表面的原位特高压电子显微镜研究
DOI：
10.1016/0169-4332(89)90081-0
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发表时间：
1990
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Akiyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Takayanagi;Y. Tanishiro;T. Ishitsuka;K. Akiyama
讨论了Pd和Cu沉积在Si(111)7×7表面形成的旋转结构。Pd和Cu在1ml的覆盖率下分别形成相称的√3 ×√3和不相称的“5×5”结构。金属原子形成的三聚体构型从对称位置旋转一个小角度，以降低Si(111)7×7结构的表面对称性。类似的旋转发生在Al - Si的“9×9”不相称结构中。
Rotated structures formed by Pd and Cu deposits on the Si(111)7×7 surface are discussed. Pd and Cu form a commensurate √3 × √3 and an incommensurate “5×5” structure at 1 ML coverage, respectively. Trimer configurations formed by metal atoms are rotated by a small angle away from the symmetry position to lower the surface symmetry of the Si(111)7×7 structure. A similar rotation occurs in a “9×9” incommensurate structure of Al on Si.