S.Sugahara et al.: "Chemical Vapor deposition of CF_3-incorprated silica for interlayer dielectric apprication"Pro.Eletrochemical Society. (2000)
S.Sugahara et al.: "Chemical Vapor deposition of CF_3-incorprated silica for interlayer dielectric apprication"Pro.Eletrochemical Society. (2000)
复制标题
S.Sugahara等人：“用于层间介电应用的CF_3掺入二氧化硅的化学气相沉积”Pro.Eletrochemical Society。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
