I. Kato et al.: "Effect of Ar^+ Ion Bombardment During Hydrogeneted Amorphous Silicon Film Growth in Plasma Chemical Vapor Deposition System"Jpn. J. Appl. Phys.. Vol. 39. 6404-6409 (2000)
I. Kato et al.: "Effect of Ar^+ Ion Bombardment During Hydrogeneted Amorphous Silicon Film Growth in Plasma Chemical Vapor Deposition System"Jpn. J. Appl. Phys.. Vol. 39. 6404-6409 (2000)
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I. Kato等：“等离子体化学气相沉积系统中氢化非晶硅膜生长过程中Ar 2 离子轰击的影响”Jpn。
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