H.Matsumura: "Formation of silicon-based thin films prepared by catalytic chemical vapor deposition(Cat-CVD)method" Japanese Journal of Applied Physics. 37・6A. 3175-3187 (1998)
H.Matsumura: "Formation of silicon-based thin films prepared by catalytic chemical vapor deposition(Cat-CVD)method" Japanese Journal of Applied Physics. 37・6A. 3175-3187 (1998)
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H.Matsumura：“通过催化化学气相沉积（Cat-CVD）方法制备的硅基薄膜”日本应用物理学杂志37・6A 3175-3187（1998）。
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