Surface Roughness of SiGe/Si(110) Formed by Stress-Induced Twins and the Solution to Produce Smooth Surface
Surface Roughness of SiGe/Si(110) Formed by Stress-Induced Twins and the Solution to Produce Smooth Surface
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应力诱导孪晶形成的 SiGe/Si(110) 表面粗糙度及光滑表面的解决方案
DOI：
10.4236/msce.2018.61004
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kiyokazu Nakagawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Junji Yamanaka;Mai Shirakura;Chiaya Yamamoto;Naoto Utsuyama;Kei Sato;Takane Yamada;Kosuke O. Hara;Keisuke Arimoto;Kiyokazu Nakagawa
