Growth and characterization of transition metal sulfide thin layers using dithiocarbamate complexes by single-source MOCVD technique. Nickel and cobalt sulfide thin layers
Growth and characterization of transition metal sulfide thin layers using dithiocarbamate complexes by single-source MOCVD technique. Nickel and cobalt sulfide thin layers
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通过单源 MOCVD 技术使用二硫代氨基甲酸盐复合物进行过渡金属硫化物薄层的生长和表征。
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Norio
中科院分区：
文献类型：
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作者：
NOMURA;Ryoki;NAKAI;Norio
