电化学刻蚀多孔硅阵列的形貌研究

电化学刻蚀多孔硅阵列的形貌研究
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DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
电子元件与材料
影响因子:
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通讯作者:
黄世明
黄世明
中科院分区:
其他
文献类型:
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作者:
陈婷婷;顾牡;于怀娜;刘小林;黄世明

文献摘要

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