T.Asano, K.Aoto, Y.Okada: "Enhanced Solid-Phase Crystallization of Amorphous Si by Plasma Treatment Using Reactive Ion Etching" Jpn.J.Appl.Phys.36・3B. 428-432 (1997)
T.Asano, K.Aoto, Y.Okada: "Enhanced Solid-Phase Crystallization of Amorphous Si by Plasma Treatment Using Reactive Ion Etching" Jpn.J.Appl.Phys.36・3B. 428-432 (1997)
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T.Asano、K.Aoto、Y.Okada：“通过使用反应离子蚀刻的等离子体处理增强非晶硅的固相结晶”Jpn.J.Appl.Phys.36・3B（1997）。
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