共焦点顕微蛍光法による表面修飾シリカゲル/溶液系におけるポア・表面拡散過程の解析
共焦点顕微蛍光法による表面修飾シリカゲル/溶液系におけるポア・表面拡散過程の解析
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使用共焦微荧光分析表面改性硅胶/溶液系统中的孔和表面扩散过程
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
秦克弥，佐藤辰巳，中谷清治
中科院分区：
文献类型：
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作者：
阿部 晟大;寺尾 憲;金岡 鐘局;伊田 翔平;脇岡正幸;秦克弥，佐藤辰巳，中谷清治
