高濃度ホウ素ドープシリコンターゲットを用いたp型微結晶シリコンの作製と評価, 第82回 応用物理学会秋季学術講演会
高濃度ホウ素ドープシリコンターゲットを用いたp型微結晶シリコンの作製と評価, 第82回 応用物理学会秋季学術講演会
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使用高硼掺杂硅靶材的p型微晶硅的制备与评价，第82届日本应用物理学会秋季学术会议
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮島 晋介
中科院分区：
文献类型：
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作者：
白取 優大;宮島 晋介
