Y.Shigeta,K.Maki: "Annealing effect on amorphous Si film depocited on a7x7 superlattiu surface of Si(111) studied with low-eneregy electron diffraction" J.Appl.Phys.75.(印刷中)5月号. (1994)
Y.Shigeta,K.Maki: "Annealing effect on amorphous Si film depocited on a7x7 superlattiu surface of Si(111) studied with low-eneregy electron diffraction" J.Appl.Phys.75.(印刷中)5月号. (1994)
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Y.Shigeta、K.Maki：“用低能电子衍射研究沉积在 Si(111) 的 a7x7 超晶格表面上的非晶硅薄膜的退火效应”J.Appl.Phys.75（出版中）（1994 年）。 ）
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